Порозен графит

Производителите на подлоги од SiC најчесто користат дизајн на сад со порозен графитен цилиндар за процесот на топло поле. Овој дизајн ја зголемува површината на испарување и волуменот на полнење. Развиен е нов процес за да се решат дефектите на кристалите, да се стабилизира преносот на масата и да се подобри квалитетот на SiC кристалите. Вклучува метод на фиксирање на кристалниот сад без семки за термичка експанзија и ослободување од стрес. Сепак, ограниченото снабдување на пазарот со графит и порозен графит претставува предизвици за квалитетот и приносот на единечните кристали SiC.

Главни карактеристики на VeTek полупроводнички порозен графит:

1.Толеранција на околината на висока температура - Производот може да издржи околина од 2500 степени Целзиусови, покажувајќи одлична отпорност на топлина.

2.Строга контрола на порозноста - VeTek Semiconductor одржува цврста контрола на порозноста, обезбедувајќи постојани перформанси.

3. Ултра-висока чистота - употребениот порозен графитен материјал постигнува високо ниво на чистота преку ригорозни процеси на прочистување.

4.Одлична способност за врзување на површинските честички - VeTek Semiconductor има одлична способност за врзување на површинските честички и отпорност на адхезија во прав.

5. Транспорт, дифузија и униформност на гас - Порозната структура на графитот го олеснува ефикасниот транспорт и дифузија на гас, што резултира со подобрена униформност на гасовите и честичките.

6. Контрола на квалитет и стабилност - VeTek Semiconductor нагласува висока чистота, ниска содржина на нечистотии и хемиска стабилност за да обезбеди квалитет во растот на кристалите.

7. Контрола на температурата и униформност - Топлинската спроводливост на порозниот графит овозможува рамномерна распределба на температурата, намалувајќи го стресот и дефектите за време на растот.

8. Засилена дифузија на растворени материи и стапка на раст - Порозната структура промовира рамномерна дистрибуција на растворени материи, подобрувајќи ја стапката на раст и униформноста на кристалите.