Подлога за нафорае обланда направена од полупроводнички еднокристален материјал. Подлогата може директно да влезе во процесот на производство на нафора за да произведе полупроводнички уреди, или може да се обработи со епитаксијален процес за производство на епитаксијални наполитанки.
Подлогата од нафора, како основна потпорна структура на полупроводничките уреди, директно влијае на перформансите и стабилноста на уредите. Како „основа“ за производство на полупроводнички уреди, на подлогата треба да се спроведат низа производствени процеси како што се раст на тенок слој и литографија.
Резиме на типови на подлоги:
●Еднокристално силиконски нафора: моментално најчестиот материјал за подлога, широко користен во производството на интегрирани кола (ICs), микропроцесори, мемории, MEMS уреди, уреди за напојување итн.;
●SOI супстрат: се користи за интегрирани кола со високи перформанси и ниска моќност, како што се високофреквентни аналогни и дигитални кола, RF уреди и чипови за управување со енергија;
●Сложени полупроводнички подлоги: Подлога од галиум арсенид (GaAs): уреди за комуникација со микробранови и милиметарски бранови итн. Подлога од галиум нитрид (GaN): се користи за RF засилувачи, HEMT итн.Супстрат од силициум карбид (SiC): се користи за електрични возила, конвертори на енергија и други уреди за напојување Индиум фосфид супстрат (InP): се користи за ласери, фотодетектори итн.;
●Подлога од сафир: се користи за производство на LED, RFIC (интегрално коло за радио фреквенција), итн.;
Vetek Semiconductor е професионален добавувач на SiC супстрат и SOI супстрат во Кина. НашиотПодлога од 4H полуизолациски тип SiCи4H полуизолациски тип SiC подлогашироко се користат во клучните компоненти на опремата за производство на полупроводници.
Vetek Semiconductor е посветена на обезбедување на напредни и приспособливи производи на Wafer Substrate и технички решенија со различни спецификации за индустријата за полупроводници. Искрено очекуваме да станеме ваш добавувач во Кина.
