Процес на офорт на ICP/PSS

VeTek Semiconductor ICPPSS (Inductively Coupled Plasma Photoresist Stripping) Процес на офортување Носачот на нафора е специјално дизајниран да ги задоволи барањата на барањата на процесите на офорт во полупроводничката индустрија. Со своите напредни функции, тој обезбедува оптимални перформанси, ефикасност и доверливост во текот на процесот на офорт.

Предноста на VeTek Semiconductor ICP/PSS Process Etching Susveptors:

Засилена хемиска компатибилност: Носачот на обланда е конструиран со употреба на материјали кои покажуваат одлична хемиска компатибилност со хемијата на процесот на офорт. Ова осигурува компатибилност со широк спектар на евтини, отпорни на стриптизери и раствори за чистење, минимизирајќи го ризикот од хемиски реакции или контаминација.

Отпорност на високи температури: Носачот на обланда е дизајниран да издржи високи температури што се среќаваат за време на процесот на офорт. Го одржува својот структурен интегритет и механичка сила, спречувајќи деформација или оштетување дури и при екстремни термички услови.

Супериорна униформност на офорт: Носачот се одликува со прецизно дизајниран дизајн кој промовира рамномерна дистрибуција на офорт и гасови низ површината на обландата. Ова резултира со постојани стапки на офорт и висококвалитетни, униформни обрасци, неопходни за постигнување прецизни и сигурни резултати на офорт.

Одлична стабилност на обландата: Носачот вклучува безбеден механизам за држење на нафора кој обезбедува стабилно позиционирање и спречува движење или лизгање на обландата за време на процесот на офорт. Ова гарантира точни и повторливи обрасци на офорт, минимизирајќи ги дефектите и загубите на принос.

Компатибилност со Cleanroom: Носачот на обланди е дизајниран да ги исполнува строгите стандарди за чиста соба. Се одликува со мало создавање на честички и одлична чистота, спречувајќи секаква контаминација со честички што може да го загрози квалитетот и приносот на процесот на офорт. Нечистотијата е под 5 ppm.

Цврста и издржлива конструкција: Носачот е дизајниран со користење на висококвалитетни материјали познати по нивната издржливост и долг животен век. Може да издржи повеќекратна употреба и ригорозни процеси на чистење без да се загрозат неговите перформанси или структурниот интегритет.

Прилагодлив дизајн: Нудиме приспособливи опции за да се исполнат специфичните барања на клиентите. Носачот може да се приспособи за да се приспособат на различни големини, дебелини и спецификации на обланди, обезбедувајќи компатибилност со различна опрема и процеси за офорт.

Искусете ја доверливоста и перформансите на нашиот носач на нафора за процес на офорт ICP/PSS, дизајниран да го оптимизира процесот на офорт во полупроводничката индустрија. Неговата подобрена хемиска компатибилност, отпорност на висока температура, супериорна униформност на офорт, одлична стабилност на нафора, компатибилност за чиста просторија, робусна конструкција и приспособлив дизајн го прават идеален избор за вашите апликации за офорт.

ПСС плоча за офорт ICP плоча за офорт ICP офорт за офорт