TAC облога на планетарниот подложник

Во областа на производството на полупроводници, TAC облогата на планетарниот подлотор игра клучна улога. Широко се користи во растот на силиконските карбид (SIC) епитаксични слоеви во опрема како Aixtron G5 системот. Понатаму, кога се користи како надворешен диск во таложење на обложување на танталум карбид (TAC) за SIC Epitaxy, TAC облогата на планетарниот подложен обезбедува суштинска поддршка и стабилност. Обезбедува униформа таложење на слојот на карбид танталум, придонесувајќи за формирање на висококвалитетни епитаксични слоеви со одлична морфологија на површината и посакувана дебелина на филмот. Хемиската инертност на облогата на TAC спречува несакани реакции и загадување, одржување на интегритетот на епитаксичните слоеви и обезбедуваат нивниот супериорен квалитет.

Исклучителната топлинска спроводливост на TAC облогата овозможува ефикасно пренесување на топлина, промовирање на униформа дистрибуција на температурата и минимизирање на термичкиот стрес за време на процесот на епитаксичен раст. Ова резултира во производство на висококвалитетни SIC епитаксични слоеви со подобрени кристалографски својства и подобрена електрична спроводливост.

Прецизните димензии и стабилната конструкција на планетарниот диск TAC обложување го олеснуваат интегрирањето во постојните системи, обезбедувајќи лесна компатибилност и ефикасно работење. Неговите сигурни перформанси и висококвалитетниот TAC облога придонесуваат за конзистентни и униформни резултира во процесите на епитаксијата на SIC.

Доверба на VETEK полупроводник и нашиот TAC обложен планет диск за исклучителни перформанси и сигурност во SIC Epitaxy. Искусете ги предностите на нашите иновативни решенија, позиционирајќи ве во првите редови на технолошките достигнувања во индустријата за полупроводници.