Услуга за поддршка

VeTek Semiconductor обезбедува висококвалитетни алуминиумски нитрид (AlN) еднокристални наполитанки и подлоги за следната генерација полупроводнички уреди со ултра широк опсег. Со ултра широк опсег од приближно 6,2 eV, извонредна топлинска спроводливост, исклучителна електрична изолација и одлична решетка и термичко проширување со GaN, наполитанките AlN се идеални за RF уреди со висока моќност, електроника со висок напон и оптоелектроника со длабока ултравиолетова (DUV).

VETEK Професионална услуга за чистење за CVD SiC обложени графитни делови е специјализирана техничка услуга дизајнирана за сензори на опремата Aixtron / Veeco MOCVD и графитни компоненти што се користат во епитаксијалните процеси GaN / AlN / AlGaN. Нашиот сопствен процес на чистење темелно го елиминира ефектот на меморијата на површината, го враќа стабилниот проток на гас во реакторот и строго ја штити CVD SiC облогата од 100 µm со загуба на апсолутна нула дебелина и нула метални остатоци.

Како што расте побарувачката за MEMS трансдуктори со висока чувствителност и ниска моќност со проширувањето на 5G комуникациите, прецизните медицински уреди и паметните уреди за носење, нашите PZT на Si/SOI наполитанки обезбедуваат критично решение за материјалот. Користејќи ги напредните процеси на таложење на тенок филм, како што се Sol-gel или распрскување, постигнуваме исклучителна конзистентност и супериорни пиезоелектрични перформанси на силициумските подлоги. Овие обланди служат како основно јадро за електромеханичка конверзија на енергија.

Растот на кристалите од силициум карбид е основен процес во производството на полупроводнички уреди со високи перформанси. Стабилноста, прецизноста и компатибилноста на опремата за раст на кристалите директно го одредуваат квалитетот и приносот на инготите од силициум карбид. Врз основа на карактеристиките на технологијата за транспорт на физичка пареа (PVT), Veteksemi разви печка за греење со отпорност за раст на кристалите на силициум карбид, овозможувајќи стабилен раст на кристали од силициум карбид од 6 инчи, 8 инчи и 12 инчи со целосна компатибилност со спроводливи, полу-изолациски системи и N. Преку прецизна контрола на температурата, притисокот и моќноста, ефикасно ги намалува дефектите на кристалите како што се EPD (Etch Pit Density) и BPD (Dislocation на базална рамнина), додека се карактеризира со ниска потрошувачка на енергија и компактен дизајн за да се задоволат високите стандарди на индустриско производство од големи размери.

Кашеста маса за полирање CMP (Chemical Mechanical Polishing Slurry) е материјал со високи перформанси што се користи во производството на полупроводници и прецизна обработка на материјали. Неговата основна функција е да постигне фина плошност и полирање на површината на материјалот под синергистички ефект на хемиска корозија и механичко мелење за да ги исполни барањата за плошноста и квалитетот на површината на нано ниво. Со нетрпение ја очекуваме вашата понатамошна консултација.

Како водечки кинески производители и добавувачи на нафора SIC, Vetek полупроводнички CVD SIC Dummy Wafer е специјализирана алатка за производство на полупроводници, главно користени за целите на тестирање на силиконски нафта и процес на тестирање на нафта. Вашите понатамошни прашања се добредојдени.