АЛД фузиран кварцен пиедестал

Полупроводник на Vetek Semiconductor ALD Fused кварц, игра клучна улога во процесот на производство на полупроводници како структура за поддршка закварцен брод, што се користи за одржување нанафора. Фузионираниот кварцен пиедестал помага во постигнување на униформа таложење на филмот со одржување на стабилна температура, што директно влијае на перформансите и сигурноста на уредите за полупроводници. Покрај тоа, кварцниот пиедестал обезбедува униформа дистрибуција на топлина и светлина во процесот на комората, а со тоа да се подобри целокупниот квалитет на процесот на таложење.

Предности на материјалот за материјал за подножје на кварцниот кварц

Отпорност на високи температури: Точката на омекнување на споениот кварцен пиедестал е висока како околу 1730 ° C, и може да издржи висока температурна работа од 1100 ° C до 1250 ° C за долго време и може да биде изложен на екстремни температурни средини до 1450 ° C за кратко време.

Одлична отпорност на корозија: Фузионираниот кварц е многу хемиски инертен за скоро сите киселини, освен хидрофлуорна киселина. Неговата отпорност на киселина е 30 пати поголема од керамиката и 150 пати поголема од не'рѓосувачкиот челик. Фузионираниот кварц е хемиски неспоредлив на високи температури, што го прави идеален материјал за комплексни хемиски процеси.

Термичка стабилност: Клучна карактеристика на материјалот на споен кварцен пиедестал е неговиот исклучително низок коефициент на термичка експанзија. Ова значи дека лесно може да се справи со драматичните температурни флуктуации без да пука. На пример, фузиран силициум кварц може брзо да се загрее до 1100°C и да се потопува директно во ладна вода без оштетување, што е важна карактеристика во услови на производство со висок стрес.

Ригорозен процес на производство: Процесот на производство на фузирани силикаци на пиедестал строго се придржува кон високо квалитетни стандарди. Процесот на производство користи процеси на топло формирање и заварување, кои обично се завршени во околина за чистење простории од класа 10,000. Потоа, фузираниот кварт стаклен пиедестал е темелно исчистен со вода со ултрапура (18 MΩ) за да се обезбеди чистота на производот и оптимални перформанси. Секој готов производ е строго прегледан, исчистен и спакуван во класа 1.000 или повисока просторија за чистење за да ги исполни високите стандарди на индустријата за полупроводници.

Материјал со висока чистота нетранспарентен силика кварц

Ветексеми алд фузиран кварц пиедестал користи висока чистота непроирен кварц материјал за ефикасно изолирање на топлината и светлината. Неговите одлични својства за заштита на топлина и светло заштитени се овозможуваат да ја одржи униформата дистрибуција на температурата во процесите на процеси, обезбедувајќи униформност и конзистентност на тенкаталожење на филмотна површината на нафора.

Полиња за апликација

Фузионираните кварцни пиедестали се користат во многу полиња на индустријата за полупроводници заради нивните одлични перформанси. Вопроцес на таложење на атомски слој (ALD)., поддржува прецизна контрола на растот на филмот и обезбедува унапредување на полупроводничките уреди. ВоПроцес на таложење на хемиски пареа со низок притисок (LPCVD), термичката стабилност и можноста за заштита на светлината на високо -чистота кварц пиедестал обезбедуваат гаранции за униформа таложење на тенки филмови, а со тоа подобрување на перформансите и приносите на уредот.

Покрај тоа, во процесот на нафта на дифузија, високата отпорност на температурата и отпорноста на хемиската корозија на фузиран кварцен пиедестал обезбедуваат сигурност и конзистентност на процесот на допинг на полупроводнички материјали. Овие клучни процеси ги одредуваат електричните перформанси на полупроводничките уреди, а висококвалитетните фузирани кварцни материјали играат неопходна улога во постигнување на најдобри резултати од овие процеси.

Продавници на VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal: