CVD танталум карбид (TaC) обложен суцептор

Клучни карактеристики

Апликации

Вообичаените апликации вклучуваат:

• Епитаксијален раст на SiC

• GaN MOCVD Епитаксија

• AlN епитаксијален раст

• Производство на полупроводници од трета генерација

• Електроника со висока моќност

• RF уреди

• MicroLED Производство

• Системи за истражување и пилот на производство

Компатибилна опрема

Компатибилните платформи вклучуваат:

• Аикстрон

• LPE

• Veeco

• AMEC

• NuFlare

• Прилагодени CVD и MOCVD реактори

Достапно е и:

• Носачи на нафора

• Планетарни сусцептори

• Буриња чувствителни

• Ротациони дискови

• Делови за полумесечина

• Покривни плочи

• Графитни склопови

• Прилагодени компоненти за топлинско поле

Технички спецификации

Најчесто поставувани прашања

1. Што е CVD TaC обложен сусцептор?

Графитна компонента со висока чистота, заштитена со густа CVD TaC облога што се користи како носач на нафора за време на епитаксијалниот раст.

2. Зошто да користите TaC coating наместо SiC слој?

TaC нуди повисока температурна отпорност, супериорна хемиска стабилност и подолг работен век.

3.Кои полупроводнички процеси користат TaC-cовесни суцептори?

SiC епитаксија, GaN MOCVD, AlN епитаксија и други процеси на раст на кристали со висока температура.

4. Дали VETEK може да произведува прилагодени сенцептори?

Да. Обезбедуваме приспособени дизајни врз основа на цртежите на клиентите и барањата на процесот.

5. Кои марки на реактори се поддржани?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare и други мејнстрим системи.