Производи

Силициум карбид слој

VeTek Semiconductor е специјализиран за производство на производи за премачкување со ултра чист силикон карбид, овие премази се дизајнирани да се нанесуваат на прочистен графит, керамика и огноотпорни метални компоненти.


Нашите премази со висока чистота се првенствено наменети за употреба во индустријата за полупроводници и електроника. Тие служат како заштитен слој за носачи на обланди, сензори и грејни елементи, заштитувајќи ги од корозивни и реактивни средини што се среќаваат во процеси како што се MOCVD и EPI. Овие процеси се составен дел на обработката на нафора и производството на уреди. Дополнително, нашите облоги се добро прилагодени за примена во вакуумски печки и загревање на примероци, каде што се среќаваат средини со висок вакуум, реактивна и кислородна средина.


Во VeTek Semiconductor, ние нудиме сеопфатно решение со нашите напредни способности за машинска продавница. Ова ни овозможува да ги произведуваме основните компоненти користејќи графит, керамика или огноотпорни метали и да ги нанесуваме керамичките облоги SiC или TaC во куќата. Ние, исто така, обезбедуваме услуги за обложување на деловите што ги набавуваат клиентите, обезбедувајќи флексибилност за задоволување на различни потреби.


Нашите производи за обложување со силикон карбид се широко користени во Si epitaxy, SiC епитаксија, MOCVD систем, RTP/RTA процес, процес на офорт, ICP/PSS процес на офорт, процес на различни типови LED, вклучувајќи сини и зелени LED, UV LED и длабоко UV LED итн., Која е прилагодена на опрема од LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI и така натаму.


Делови од реакторот што можеме да ги направиме:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Слој со силикон карбид неколку уникатни предности:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Параметар за обложување со силикон карбид на полупроводник VeTek

Основни физички својства на CVD SiC облогата
Имотот Типична вредност
Кристална структура FCC β фаза поликристална, главно (111) ориентирана
Густина на облогата на SiC 3,21 g/cm³
SiC облога Цврстина 2500 Викерс цврстина (оптоварување 500 g)
Големина на жито 2 ~ 10 μm
Хемиска чистота 99,99995%
Топлински капацитет 640 J·kg-1· К-1
Температура на сублимација 2700 ℃
Јачина на свиткување 415 MPa RT 4-точка
Модулот на Јанг 430 Gpa 4pt кривина, 1300℃
Топлинска спроводливост 300 W·m-1· К-1
Термичка експанзија (CTE) 4,5×10-6K-1

CVD SIC ФИЛМ КРИСТАЛНА СТРУКТУРА

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



View as  
 
CVD SIC облога за обложување

CVD SIC облога за обложување

CVD SIC CVD SIC Baffle главно се користи во SI Epitaxy. Обично се користи со силиконски буриња за проширување. Комбинира уникатна висока температура и стабилност на CVD SIC облогот за обложување, што во голема мерка ја подобрува униформата дистрибуција на протокот на воздух во производството на полупроводници. Ние веруваме дека нашите производи можат да ви донесат напредна технологија и висококвалитетни решенија за производи.
CVD Sic Graphite Cylinder

CVD Sic Graphite Cylinder

CVD SIC Graphite Cilinder на Vetek SiC SIC е клучен во опрема за полупроводници, што служи како заштитен штит во рамките на реакторите за да ги заштити внатрешните компоненти во поставките за висока температура и притисок. Ефективно се заштитува од хемикалии и екстремна топлина, зачувувајќи го интегритетот на опремата. Со исклучителна отпорност на абење и корозија, обезбедува долговечност и стабилност во предизвикувачки околини. Користењето на овие корици ги подобрува перформансите на уредот за полупроводници, го продолжува животниот век и ги ублажува барањата за одржување и ризиците од оштетување.
Млазница за обложување CVD SiC

Млазница за обложување CVD SiC

Млазниците за обложување CVD SiC се клучни компоненти што се користат во процесот на епитаксија на LPE SiC за депонирање на материјали од силициум карбид за време на производството на полупроводници. Овие млазници обично се направени од високотемпературен и хемиски стабилен материјал од силициум карбид за да се обезбеди стабилност во тешки средини за обработка. Дизајнирани за униформно таложење, тие играат клучна улога во контролирањето на квалитетот и униформноста на епитаксијалните слоеви одгледувани во полупроводнички апликации. Добредојдовте на вашето понатамошно истражување.
CVD SIC заштитник за обложување

CVD SIC заштитник за обложување

CVD SIC заштитен заштитник на Vetek Semiconductor, кој се користи е LPE SIC Epitaxy, терминот „LPE“ обично се однесува на епитаксијата со низок притисок (LPE) при таложење на хемиски пареа со низок притисок (LPCVD). Во производството на полупроводници, LPE е важна процесна технологија за одгледување единечни кристални тенки филмови, честопати што се користат за одгледување на силиконски епитаксични слоеви или други полупроводнички епитаксични слоеви. ПЛЕ не се двоумат да не контактираат за повеќе прашања.
Постамент обложен со SiC

Постамент обложен со SiC

Vetek Semiconductor е професионален во изработка на CVD SiC облога, TaC облога на графит и материјал од силициум карбид. Ние обезбедуваме OEM и ODM производи како што се SiC обложен пиедестал, носач за обланда, чак за нафора, фиока за носач на нафора, планетарен диск и така натаму. од тебе наскоро.
Влезен прстен за обложување SiC

Влезен прстен за обложување SiC

Полупроводникот на Ветек се одликува со тесно соработка со клиентите за да занаети дизајни за обложување на влезот за премачкување, прилагодени на специфични потреби. Овие влезни прстени за обложување на SIC се прецизно дизајнирани за разновидни апликации како што се CVD SIC опрема и силиконска карбид епитаксија. За прилагодените решенија за влез во прстенот SIC, не двоумете се да допрат до полупроводникот на Ветек за персонализирана помош.
Како професионален производител и добавувач на 77 фунти во Кина, имаме своја фабрика. Без разлика дали ви требаат прилагодени услуги за да ги задоволите специфичните потреби на вашиот регион или сакате да купите напредни и издржливи Силициум карбид слој направени во Кина, можете да ни оставите порака.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept