Порозен керамички вакуум чак

Vetek Semiconductor е кинески производител на порозен керамички вакуум чак, кој се користи за фиксирање и држење на силиконски наполитанки или други супстрати со вакуумска адсорпција за да се осигура дека овие материјали нема да се поместат или искриват за време на обработката. Vetek Semiconducto може да обезбеди производи со порозен керамички вакуум чак со висока чистота со високи перформанси. Добредојдовте да се распрашате.

Vetek Semiconductor нуди серија одлични производи порозен керамички вакуум чак, специјално дизајнирани да ги задоволат строгите барања на модерното производство на полупроводници. Овие носачи покажуваат одлични перформанси во чистотата, плошноста и приспособливата конфигурација на патеката за гас.

Неспоредлива чистота:

Елиминација на нечистотии: Секој порозен керамички вакуум чак се синтерува на 1200°C 1,5 часа за целосно да се отстранат нечистотиите и да се осигура дека површината е чиста како нова.

Вакуумско пакување: За одржување на чиста состојба, порозниот керамички вакуум чак е вакуумски спакуван за да се спречи контаминација при складирање и транспорт.

Одлична плошност:

Адсорпција на цврста обланда: Порозниот керамички вакуум чак одржува сила на адсорпција од -60 kPa и -70 kPa пред и по поставувањето на нафората, соодветно, обезбедувајќи цврсто впивање на обландата и спречување да падне за време на преносот со голема брзина.

Прецизна обработка: Задниот дел на носачот е прецизно обработен за да се обезбеди целосно рамна површина, со што се одржува стабилна вакуумска заптивка и се спречува истекување.

Прилагоден дизајн:

Клиент-центрични: Vetek Semiconductor тесно соработува со клиентите за да дизајнира конфигурации на патеката за гас кои ги задоволуваат нивните специфични барања за процесот за да ја оптимизираат ефикасноста и перформансите.

Строго тестирање за квалитет:

Ветек спроведува сеопфатни тестови на секое парче порозен SiC вакуум чак за да го обезбеди неговиот квалитет:

Тест за оксидација: SiC вакуум чакот брзо се загрева до 900°C во средина без кислород за да се симулира вистинскиот процес на оксидација. Пред ова, носачот се грее на 1100°C за да се обезбеди оптимална изведба.

Тест за остатоци од метал: За да се спречи контаминација, носачот се загрева на висока температура од 1200°C за да се открие дали има таложени метални нечистотии.

Тест за вакуум: Со мерење на разликата во притисокот помеѓу порозниот SiC вакуум чак со и без нафора, неговите перформанси на вакуумско запечатување се строго тестирани. Разликата на притисокот мора да се контролира во рамките на ± 2 kPa.

Табела со карактеристики на порозен керамички вакуум чак:

VeTek Semiconductor Porous SiC вакуум чак продавници: