Кварцна дифузна цевка со висока чистота

Кварцната дифузна цевка со висока чистота на VeTek Semiconductor има карактеристики на висока чистота, висока отпорност на топлина, висока отпорност на корозија и низок коефициент на експанзија. Овие карактеристики овозможуваат кварцната дифузна цевка со висока чистота да ја издржи околината на процесот на оксидирачко жарење на полупроводничките наполитанки без деформација или оштетување.

Кварцната дифузна цевка со висока чистота на VeTek Semiconductor има чистота од над 99,998%, што осигурува дека нема да има контаминација на нафората за време на процесот на подготовка на нафора.

Примена на кварцна дифузна цевка во процес на дифузија на полупроводничка оксидација

Одличните термички перформанси на нашата кварцна дифузна цевка со висока чистота се многу важни во процесот на оксидација. Кварцната дифузна цевка со висока чистота може да издржи температури до 1250°C за време на термичка оксидација и жарење, обезбедувајќи непречена обработка на нафора. Дополнително, изолационите својства и високата термичка отпорност на кварцната дифузна цевка со висока чистота на крајот обезбедуваат конзистентност на обработката на цената на нафората.

Кварцната дифузна цевка со висока чистота на VeTek Semiconductor е идеална за обработка на нафора

Покрај оксидацијата, жарењето е уште еден важен процес во производството на полупроводнички нафора. Со загревање на обландата на одредена температура и нејзино ладење со контролирана брзина за одреден временски период, целта е да се подобри микроструктурата и перформансите на материјалот. Клучот за овој процес е прецизната контрола на температурата - таа мора да биде доволно висока за да дозволи атомите да се преуредат, но не премногу висока за да се избегне неповратно оштетување. Времето на задржување им овозможува на атомите во материјалот да се движат и преуредуваат, што помага да се елиминираат дефектите на решетката, да се зголеми големината на зрната итн. Фазата на ладење на процесот на жарење е исто така многу критична, а стапката на ладење може значително да влијае на конечната кристална структура и перформанси.

Кварцната дифузна цевка со висока чистота VeTek ја обезбедува потребната термичка стабилност за процесот на жарење, овозможувајќи му на нафората рамномерно да се жари. Во исто време, одличната отпорност на термички удар на кварцната дифузна цевка со висока чистота ја обезбедува нејзината стабилност во брзите циклуси на загревање и ладење за време на процесот на жарење на нафора, така што неговиот животен век и сигурност при процесот на жарење се загарантирани.

Покрај горенаведените предности, VeTek Semiconductor High Quartz Diffusion Tube, исто така, има висока UV транспарентност. Може да се користи за следење и проверка на процесот на обработка на обланда преку УВ светлина, со што се подобрува веродостојноста на финалниот полупроводнички уред.

Вистинските барања на различни полупроводнички процеси се различни. Со цел да ги задоволиме овие различни потреби, ние секогаш сме посветени да им обезбедиме на клиентите производи со високо приспособени производи за дифузија на кварцни цевки со висока чистота за да ги задоволат барањата за сценариото за употреба на крајниот корисник. Нашите услуги за прилагодување на клиентите вклучуваат различни структури на самата кварцна дифузна цевка со висока чистота, различни прирабници и други конфигурации. Без разлика дали станува збор за истражување и развој од мал обем или за масовно производство од големи размери, ние сме компетентни. Со нетрпение го очекуваме вашето барање и воспоставување долгорочно партнерство со вас.

Продавница VeTek Semiconductor Production：