Прстен за покривање на нафора од графит обложен со TaC

Основни технички предности

• Исклучителна хемиска отпорност: Конструиран да издржи груби гасови за гравирање (H2, NH3, HCl) на температури помеѓу 1200°C и 2000°C.

• Усогласување со термичка експанзија: Нашиот сопствен CVD процес гарантира дека TaC облогата има оптимизирано CTE (коефициент на термичка експанзија) усогласување со графитната подлога, спречувајќи лупење или пукање при брзо термичко цикирање.

• Супериорна контрола на честички: Со целосно запечатување на порозниот графит, слојот TaC го елиминира осипувањето на честичките, директно зголемувајќи го вашиот принос на нафора и намалувајќи го времето на прекин на реакторот.

• Продолжен работен век: Површина многу отпорна на абење која издржува повторени циклуси на чистење, нудејќи значително помал Трошок на сопственост (CoO) во споредба со алтернативите без облога или обложени со SiC.

Тантал карбид (TaC) облога на микроскопски пресек

Параметар на производот на облогата за покривање со графитна обланда обложена со TaC

Зошто да ги изберете нашите прстени за покривање TaC?

Ние разбираме дека при производството на полупроводници, доверливоста е еднаква на профитабилноста. Нашите TaC обложени прстени за покривање со графит нафора се сериски тестирани за густина и чистота на облогата. Без разлика дали преминувате од производство на нафора од 6 инчи на 8 инчи или оптимизирате процес на MOCVD со висока температура, нашите прстени обезбедуваат термичка и хемиска заштита неопходна за епитаксија од светска класа.