Суровина со висока чистота CVD SIC

Договорен полу -ононторSic единечна кристална суровина- Висока чистота CVD SIC суровина. Овој производ го исполнува домашниот јаз и е исто така на водечко ниво на глобално ниво и ќе биде во долгорочна водечка позиција во конкуренцијата. Традиционалните суровини на силиконски карбид се произведуваат со реакција на силикон со висока чистота играфит, кои се богати со цена, со мала чистота и мала по големина. 

Технологијата на флуидизираниот кревет на Vetek Semicontuctor користи метилтрихлорозилан за да генерира силиконски карбид суровини преку хемиско таложење на пареа, а главниот нуспроизвод е хлороводородна киселина. Хлороводородната киселина може да формира соли со неутрализирање со алкали и нема да предизвика загадување на околината. Во исто време, метилтрихлорозилан е широко користен индустриски гас со ниски трошоци и широки извори, особено Кина е главниот производител на метилтрихлорозилан. Затоа, суровината со висока чистота на Vetek Semiconductor CVD SIC има меѓународна водечка конкурентност во однос на трошоците и квалитетот. Чистотата на суровината со висока чистота CVD Sic е поголема од99,9995%.

Предности на суровината со висока чистота CVD SIC

 ● Голема големина и голема густина

Просечната големина на честички е околу 4-10мм, а големината на честичките на домашните суровини на Ахсон е <2,5мм. Истиот волумен Crucible може да има повеќе од 1,5 килограми суровини, што е погодно за решавање на проблемот со недоволно снабдување со материјали за раст на кристали со голема големина, ублажување на графитизацијата на суровините, намалувањето на завиткување на јаглерод и подобрување на квалитетот на кристалот.

 ●Низок однос SI/C.

Поблиску е до 1: 1 од суровините на Ахесон на методот на самопропишување, што може да ги намали дефектите предизвикани од зголемувањето на делумниот притисок на СИ.

 ●Висока излезна вредност

Зголемените суровини сè уште го одржуваат прототипот, ја намалуваат рекристализацијата, ја намалуваат графитизацијата на суровините, ги намалуваат дефектите на завиткување на јаглерод и го подобруваат квалитетот на кристалите.

● Поголема чистота

Чистотата на суровините произведени со методот на CVD е поголема од онаа на суровините на Ахесон на методот за самопропишување. Содржината на азот достигна 0,09ppm без дополнително прочистување. Оваа суровина исто така може да игра важна улога во полу-изолирачкото поле.

● Пониска цена

Единствената стапка на испарување ја олеснува контролата на процесот и квалитетот на производот, истовремено подобрување на стапката на употреба на суровини (стапка на употреба> 50%, 4,5 кг суровини произведуваат 3,5 кг инготи), намалувајќи ги трошоците.

 ●Ниска стапка на грешка на човекот

Депонирањето на хемиската пареа избегнува нечистотии воведени од човековото работење.

Vetek полупроводник со висока чистота CVD SIC суровини Продавници за производи: