Цврст SiC офорт за фокусирање на прстен

Vetek Semiconductor постигна голем напредок во технологијата CVD Solid SIC и сега е во состојба да произведе цврст прстен за фокусирање на гравирање на SIC со ниво на водечки светски водечки. Цврстиот прстен за фокусирање на SIC на Vetek Semicon е ултра-висока чистота силиконски карбиден материјал, создаден преку процесот на хемиско таложење на пареата.

Цврсти прстени за фокусирање на гравирање на SIC се користат во процесите на производство на полупроводници, особено во системите за гравирање во плазма. Прстенот на фокусот SIC е клучна компонента која помага да се постигне прецизно и контролирано гравирање на нафора на силиконски карбид (SIC).

За време на процесот на плазма офорт, прстенот за фокусирање игра повеќе улоги како што следува:

● Фокусирање на плазмата: Цврстиот прстен за фокусирање на гравирање на SIC помага во форма и концентрирање на плазмата околу нафтата, осигурувајќи дека процесот на гравирање се јавува рамномерно и ефикасно. Тоа помага да се ограничи плазмата во посакуваната област, спречувајќи залутано гравирање или оштетување на околните региони.

●  Заштита на wallsидовите на комората: Прстенот за фокусирање делува како бариера помеѓу плазмата и wallsидовите на комората, спречувајќи директен контакт и потенцијално оштетување. SIC е многу отпорен на ерозија на плазмата и обезбедува одлична заштита за wallsидовите на комората.

●  Tконтрола на температурата: SIC Focus Focus Rings помага во одржувањето на униформата дистрибуција на температурата низ нафтата за време на процесот на гравирање. Помага да се расипе топлината и спречува локализирано прегревање или термички градиенти што можат да влијаат на резултатите од гравирање.

Цврста SIC е избран за фокусирање на прстените заради неговата извонредна термичка и хемиска стабилност, висока механичка јачина и отпорност на ерозија на плазмата. Овие својства прават SIC соодветен материјал за суровите и барани услови во системите за гравирање во плазма.

Вреди да се напомене дека дизајнот и спецификациите на прстените за фокусирање може да варираат во зависност од специфичниот систем за плазма офорт и барањата на процесот. VeTek Semiconductor ги оптимизира обликот, димензиите и карактеристиките на површината на прстените за фокусирање за да обезбеди оптимални перформанси на офорт и долговечност. Цврстиот SiC е широко користен за носачи на нафора, сенцептори, кукла нафора, водилки, делови за процес на офорт, процес на CVD итн.