Цврста глава за туширање со гас

Цврста SiC гасна глава за туширање

VeTek Semiconductor е интегрирана компанија посветена на истражување, производство и продажба. VeTek Semiconductor со години работи на полупроводничка епитаксија, офорт и други производи поврзани со процесот, особено CVD SiC облогата, CVD TaC облогата и CVD Solid SiC се нашите водечки производи.

VeTek Semiconductor Solid SiC гасна глава за туширање најчесто се користи за рамномерно распоредување на прекурсорните гасови на површината на подлогата за време на процесите на CVD со полупроводници. Користењето CVD-SiC материјал за туш глави нуди неколку предности. Неговата висока топлинска спроводливост помага да се троши топлината што се создава во процесот на CVD, обезбедувајќи рамномерна распределба на температурата на подлогата. Дополнително, хемиската стабилност на CVD sic главата за туширање ѝ овозможува да издржи корозивни гасови и сурови средини кои вообичаено се среќаваат во процесите на CVD. 

Дизајнот на CVD SIC главите за туширање може да биде прилагодена на специфични системи за CVD и барања за процеси. Како и да е, тие обично се состојат од плоча или компонента во форма на диск со серија дупки или слотови со прецизност. Моделот на дупките и геометријата се внимателно дизајнирани за да се обезбеди униформа дистрибуција на гас и брзина на проток над површината на подлогата.

Физички својства на цврста sic