Плоча за гравирање на ICP

Технологијата за гравирање на ICP (индуктивно споен плазма) технологија е прецизен процес на гравирање во производството на полупроводници, најчесто се користи за прецизност и висококвалитетен трансфер на шема, особено погоден за длабоко гравирање на дупки, обработка на микро-шема, итн.

ПолуПлочата за гравирање на ICP е специјално дизајнирана за ICP процес, користејќи висококвалитетни SIC материјали и може да обезбеди одлични перформанси во висока температура, силни корозивни и високи енергетски средини. Како клучна компонента за лого и поддршка,ИЦП -ечПлочата обезбедува стабилност и ефикасност за време на процесот на гравирање.

Плоча за гравирање на ICPКарактеристики на производот

● Толеранција на висока температура

Плочата за гравирање SIC ICP може да издржи на температурни промени до 1600 ° C, обезбедувајќи стабилна употреба во околината за гравирање на ICP со висока температура и избегнување на деформација или деградација на перформансите предизвикана од температурни флуктуации.

●  Одлична отпорност на корозија

Силиконски карбид материјалможе ефикасно да одолее на високо корозивни хемикалии, како што се водород флуорид, водород хлорид, сулфурна киселина, итн. што може да биде изложено за време на гравирање, осигурувајќи дека производот не е оштетен за време на долгорочна употреба.

●  Низок коефициент на термичка експанзија

Плочата за гравирање SIC ICP има низок коефициент на термичка експанзија, кој може да одржи добра димензионална стабилност во висока температурна околина, да го намали стресот и деформацијата предизвикана од температурните промени и да обезбеди точен процес на гравирање.

●  Висока цврстина и отпорност на абење

SIC има цврстина до 9 цврстина на MOHS, што може ефикасно да спречи механичко абење што може да се појави за време на процесот на гравирање, да го прошири животниот век и да ја намали фреквенцијата на замена.

● Е.Xcellent термичка спроводливост

Одлична термичка спроводливост гарантира декаSic послужавникМоже брзо да ја расипе топлината за време на процесот на гравирање, избегнувајќи ги локалните зголемувања на температурата предизвикано од акумулацијата на топлина, со што се обезбедува стабилност и униформност на процесот на гравирање.

Со поддршка на силен технички тим, ветексемион SIC ICP -лента за гравирање има завршено разни тешки проекти и обезбедува прилагодени производи според вашите потреби. Со нетрпение го очекуваме вашето испитување.

Основни физички својства на CVD Sic: