Производи

Нашиот брод со висока чистота кварц е изработен од фузиран кварц (содржина на Sio₂ ≥ 99,99%). Со својата одлична отпорност на екстремни опкружувања, низок коефициент на термичка експанзија и долг животен циклус, тој стана незаменлив клуч што може да се потроши во полупроводникот и новата енергетска индустрија.

Фокус прстен за гравирање е клучна компонента за да се обезбеди точност и стабилност на процесот. Овие компоненти се прецизно собрани во вакуумска комора за да се постигне униформа машинска обработка на структурите на нано -скала на површината на нафтата преку прецизна контрола на дистрибуцијата на плазмата, температурата на работ и униформноста на електричното поле.

Ветексемиконски единечен нафора Епи графит суксетор е дизајниран за силиконски карбид со високи перформанси (SIC), галиум нитрид (GAN) и други полупроводнички епитаксични процеси на трета генерација, и е основна компонента на лежиштето на епитаксијалниот лист со висока прецизност во масовното производство.

Ветексемион е водечки производител на вакуум Чак во Кина, нашиот керамички вакуум Чак служи како уред за адсорпција на високо ниво на вакуум ориентиран кон точно adsorbing и имобилизирачки нафора и инготи. Добредојдовте на вашето барање.

Графитна хартија со висока чистота на Vetek Semiconductor, врвен производ дизајниран да ги исполни ригорозните стандарди за чистота и перформанси. Со исклучително ниво на чистота до 99,9%, нашата графитна хартија е доверлива опција за различни апликации како што се батериски системи, горивни ќелии, решенија за термичко управување, полупроводнички термички полиња и пошироко. Изработена преку неслободен производствен процес, оваа графитна хартија гарантира униформност и конзистентност, обезбедувајќи неспоредлива електрична спроводливост и топлинска стабилност. Доверете се на графитната хартија со висока чистота на Vetek Semiconductor за доверливост и извонредност во вашите специјализирани проекти.

Vetek Semiconductor нуди графит во прав со висока чистота кој е висококвалитетен производ со чистота до 5 ppm и ги задоволува највисоките индустриски стандарди. Прилагодлива форма на честички, главно се користи за синтеза на силициум карбид во прав и дијаманти, погодна за полупроводнички, електроника и високотехнолошки индустрии. Добредојдовте да не прашате!