Веб мени

Пребарување производ

Јазик

Производи
Плоча за носач за гравирање PSS за полупроводник
  • Плоча за носач за гравирање PSS за полупроводникПлоча за носач за гравирање PSS за полупроводник
  • Плоча за носач за гравирање PSS за полупроводникПлоча за носач за гравирање PSS за полупроводник

Плоча за носач за гравирање PSS за полупроводник

Плочата за гравирање на PSS на Vetek Semiconductor за полупроводник е висококвалитетен, ултра-чист графит носач дизајниран за процеси на ракување со нафора. Нашите превозници имаат одлични перформанси и можат да настапат добро во груби околини, високи температури и груби услови за чистење на хемикалии. Нашите производи се користат на многу европски и американски пазари, и со нетрпение очекуваме да станете ваш долгорочен партнер во Кина. Вие сте добредојдени да дојдете во Кина за да ја посетите нашата фабрика и да дознаете повеќе за нашата технологија и производи.
Испрати барање 
Опис на производот

Како водечки професионален производител на теренот, Vetek Semiconductor е воодушевен што ви нуди врвни плочи за гравирање на PSS, прилагодени специјално за индустријата за полупроводници.


Нашите плочи за носачи за гравирање PSS за полупроводници се многу специјализирани компоненти кои се неопходни во процедурите за гравирање на спектроскопија на плазмата (PSS) во рамките на производството на полупроводници. Овие плочи претпоставуваат клучна улога за време на процесот на гравирање. Тие обезбедуваат стабилна поддршка и обезбедуваат непречен транспорт на полупроводници, што е клучно за прецизноста и квалитетот на операцијата за гравирање.


Ние топло ве покануваме да допрат до нас за какви било прашања. Ние сме секогаш подготвени да им помогнеме и да обезбедиме подетални информации за нашите извонредни производи.




Плоча за носач за гравирање PSS за полупроводникКлучни карактеристики:

● Прецизен дизајн: Плочата за превозникот е дизајнирана со прецизни димензии и површинска рамност за да се обезбеди униформа и конзистентно гравирање низ нафорите на полупроводници. Обезбедува стабилна и контролирана платформа за нафорите, овозможувајќи точни и сигурни резултати за гравирање.

● Отпорност на плазма: Плочата за носач покажува одличен отпор на плазмата што се користи во процесот на гравирање. Останува непогодена од реактивните гасови и високо-енергетската плазма, обезбедувајќи продолжен животен век и конзистентни перформанси.

● Термичка спроводливост: На плочата на носачот има висока топлинска спроводливост за ефикасно да ја распушти топлината генерирана за време на процесот на гравирање. Ова помага во одржување на оптимална контрола на температурата и спречува прегревање на нафорите на полупроводници.

● Компатибилност: Плочата за носач за гравирање PSS е дизајнирана да биде компатибилна со различни големини на нафта на полупроводници кои најчесто се користат во индустријата, обезбедувајќи разноврсност и леснотија на употреба во различни процеси на производство.


Параметар на производот на плочата за носач за гравирање PSS за полупроводник

Основни физички својства на CVD SIC облогата
Својство Типична вредност
Кристална структура FCC β фаза поликристален, главно (111) ориентиран
Густина на обложување 3.21 g/cm³
CVD SIC цврстина на обложување 2500 Викерс цврстина （500g оптоварување）
Големина на жито 2 ~ 10 μm
Хемиска чистота 99.99995%
Топлински капацитет 640 J · kg-1· К.-1
Температура на сублимација 2700
Флексурална сила 415 MPa RT 4-точка
Модул на Јанг 430 GPa 4pt Bend, 1300 ℃
Термичка спроводливост 300W · m-1· К.-1
Термичка експанзија (CTE) 4,5 × 10-6K-1



Тоа полупроводник Плоча за носач за гравирање PSS за полупроводникПроизводство продавница

SiC Graphite substrateCVD TaC coating cover testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment



Преглед на синџирот на индустрија за епитакси на полупроводнички чипови:

SiC Epitaxy Si Epitaxy GaN Epitaxy

Жешки тагови: Плоча за носач за гравирање PSS за полупроводник
Поврзана категорија
Испрати барање
Контакт Инфо

  • Адреса

    Вангда патот, улицата Зијанг, округот Вуи, градот Jinинхуа, провинцијата hejеџијанг, Кина

  • тел

    +86-18069220752

  • Е-пошта

    anny@veteksemi.com

За прашања во врска со облогата со силикон карбид, облогата со тантал карбид, специјалниот графит или ценовникот, ве молиме оставете ни ја вашата е-пошта и ние ќе стапиме во контакт во рок од 24 часа.
Поврзани производи
Носач за гравирање на ICP
Носач за гравирање на ICP Гледај Повеќе >>
Плоча за гравирање на ICP
Плоча за гравирање на ICP Гледај Повеќе >>
SIC обложена е-чиста
SIC обложена е-чиста Гледај Повеќе >>
Прстен за фокусирање на плазма за гравирање
Прстен за фокусирање на плазма за гравирање Гледај Повеќе >>
SIC обложен носач на нафта за гравирање
SIC обложен носач на нафта за гравирање Гледај Повеќе >>
Вести Препораки
Која е разликата помеѓу обложувањата на силиконски карбид и танталум карбид?
Која е разликата помеѓу обложувањата на силиконски карбид и танталум карбид?Гледај Повеќе >>
Проблемите во процесот на гравирање
Проблемите во процесот на гравирањеГледај Повеќе >>
Добредојдовте на клиентите да ја посетат фабриката за обложување/ TAC за обложување на Vetekemicon/ TAC и фабрика за процеси на епитаксијата
Добредојдовте на клиентите да ја посетат фабриката за обложување/ TAC за обложување на Vetekemicon/ TAC и фабрика за процеси на епитаксијатаГледај Повеќе >>
Три SIC единечни технологии за раст на кристалот
Три SIC единечни технологии за раст на кристалотГледај Повеќе >>
Која е специфичната примена на TAC обложени делови во полето на полупроводници?
Која е специфичната примена на TAC обложени делови во полето на полупроводници?Гледај Повеќе >>
Што е епитаксијален раст контролиран со чекор?
Што е епитаксијален раст контролиран со чекор?Гледај Повеќе >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept