Што е танталум карбид (TAC)

Танталум карбид (TAC)е бинарно соединение на танталум (ТА) и јаглерод (Ц), со хемиска формула обично изразена како TACₓ (каде X се движи од 0,4 до 1). Тој е класифициран како огноотпорен керамички материјал со одлична цврстина, стабилност на висока температура и метална спроводливост.

1. Структура на карбид Танталум

1.1 Хемиски состав и кристална структура

Танталум карбид е бинарно керамичко соединение составено од танталум (ТА) и јаглерод (Ц).

Неговата кристална структура е кубна насочена кон лицето (FCC), што му дава одлична цврстина и стабилност.

1.2 Карактеристики на сврзување

Силното ковалентно сврзување го прави танталумот карбид исклучително тврд и отпорен на деформација.

TAC има исклучително низок коефициент на дифузија и останува стабилен дури и на високи температури.

Обложување на танталум карбид (TAC) на микроскопски пресек

2. Физички својства на карбид Танталум

2.1 Ултра-висока точка на топење

Со точка на топење од 3.880 ° C, танталум карбид има една од највисоките точки на топење на кој било познат материјал, што резултира во одлична стабилност на екстремни температури.

2.2 Одлична цврстина

Со цврстина на MOHS од приближно 9-10, таа е близу до дијамант и затоа е широко користена во облоги отпорни на абење.

2.3 Добра електрична спроводливост

За разлика од повеќето керамички материјали, TAC има висока електрична спроводливост слична на метал, што го прави вредно за апликации во одредени електронски уреди.

2.4 Отпорност на корозија и оксидација

TAC е исклучително отпорен на корозија на киселина и го одржува својот структурен интегритет во груби околини во текот на долг временски период.

Како и да е, TAC може да оксидира до танталум пентоксид (Ta₂o₅) во воздухот над 1.500 ° C. 

3 Заеднички готови производи од карбид Танталум

3.1 Танталум карбид обложени делови

● CVD tantalum carbide обложен подложен подложен: Се користи во полупроводничка епитакси и обработка на висока температура.

● Танталум карбид обложени делови од графит: Се користи во печки со висока температура и комори за обработка на нафта. Примерите вклучуваат порозен графит обложен со карбид на танталум, кој значително ја подобрува ефикасноста на процесите и квалитетот на кристалот со оптимизирање на протокот на гас за време на растот на кристалот SIC, намалување на термичкиот стрес, подобрување на термичката униформност, подобрување на отпорот на корозија и инхибирање на дифузија на нечистотии.

● Плоча за ротација на карбид Танталум: Так -обложената плоча на Vetekemicon's TAC има висок состав на чистота со помалку од 5ppm содржина на нечистотии и густа и униформа структура, која се користи во системот LPE EPI, Aixtron System, Nuflare System, TEL CVD систем, систем VEECO, системот TSI. Системи, TSI системи.

● TAC обложен грејач: Комбинацијата на екстремно високата точка на топење на TAC облогата (3880 ° C) му овозможува да работи на многу високи температури, особено во растот на епитаксичните слоеви на галиум нитрид (GAN) во процесот на таложење на органска хемиска пареа (MOCVD).

● Танталум карбид обложен сад: CVD TAC обложени крстосници често играат клучна улога во растот на единечните кристали на SIC со PVT.

3.2 Алатки за сечење и компоненти отпорни на абење

● Tantalum Carbide обложени алатки за сечење карбид: Подобрување на животниот век на алатката и точноста на машината.

● Воздухопловни млазници и топлински штитови: Обезбедете заштита во екстремни топлински и корозивни средини.

3,3 керамички производи со високи перформанси на танталум карбид

Systems Системи за термичка заштита на вселенското летало (TPS): За вселенско летало и хиперсонични возила.

● Обложувања за нуклеарно гориво: Заштитете ги пелетите за нуклеарно гориво од корозија.

4. Апликации за карбид на Танталум во производство на полупроводници

4.1 Танталум карбид обложени превозници (подложни) за епитаксични процеси

Улога: Танталум карбидни облоги што се применуваат на графитските носачи ја подобруваат термичката униформност и хемиската стабилност во процесите на хемиска пареа (CVD) и метални-органски хемиски пареа таложење (MOCVD).

Предност: Намалена загадување на процесите и продолжен живот на превозникот.

4.2 Компоненти за таложење и таложење

Прстени за пренесување на нафта и штитови: Танталум карбид обвивка ја подобрува издржливоста на коморите во плазма.

Предност: Издржува агресивни околини за гравирање и ги намалува врнежите од загадувачи.

4.3 Елементи за греење на висока температура

Примена во раст на SIC CVD: Танталум карбид обложени елементи за греење ја подобруваат стабилноста и ефикасноста на процесот на изработка на нафора на силикон карбид (SIC).

4.4 Заштитни облоги за опрема за производство на полупроводници

Зошто ви е потребна TAC облога?  Производството на полупроводници вклучува екстремни температури и корозивни гасови, а обложувањата на карбид танталум се ефикасни во подобрувањето на стабилноста и животот на опремата.

5. Зошто изберетеПолу?

Ветексемион е водечки производител и снабдувач наТанталум карбид облогаМатеријали до индустријата за полупроводници во Кина. Нашите главни производи вклучуваат CVD Tantalum Carbide обложени делови, синтетирани делови обложени со TAC за раст на кристалот SIC или процеси на епитакси на полупроводници. Ветексемион е посветен да биде иноватор и лидер во индустријата за обложување на карбид Танталум преку континуирана истражување и развој и технологија и итерација на технологија.