Колку знаете за CVD Sic? - Полупроводник на Ветек

CVDsic(Хемиски таложење на пареа силикон карбид) е силиконски карбид материјал со висока чистота, произведен од хемиско таложење на пареа. Главно се користи за разни компоненти и облоги во опремата за обработка на полупроводници. CVDSic материјалИма одлична термичка стабилност, висока цврстина, низок коефициент на термичка експанзија и одлична отпорност на хемиска корозија, што го прави идеален материјал за употреба во екстремни услови на процеси.

CVDSIC материјалот е широко користен во компонентите кои вклучуваат висока температура, високо корозивна околина и висок механички стрес во процесот на производство на полупроводници.

CVDsicКомпонентиглавно, вклучувајќи ги следниве производи

● CVDSIC облога

Се користи како заштитен слој за опрема за обработка на полупроводници за да се спречи подлогата да биде оштетена од висока температура, хемиска корозија и механичко абење.

● Sic Wafer Boat

Се користи за носење и транспорт на нафора во процеси на висока температура (како што се дифузија и епитаксичен раст) за да се обезбеди стабилност на нафора и униформност на процесите.

● SIC процесна цевка

Цевките за процеси на SIC главно се користат во печки за дифузија и печки за оксидација за да се обезбеди контролирана околина за реакција за силиконски нафора, обезбедувајќи прецизно таложење на материјалот и униформа дистрибуција на допинг.

● Sic Cantilever лопатка

SIC Cantilever лопатката главно се користи за носење или поддршка на силиконските нафора во печки за дифузија и печки за оксидација, играјќи улога на лежиште. Особено во процесите на висока температура, како што се дифузија, оксидација, полнење, итн., Обезбедува стабилност и униформа третман на силиконски нафора во екстремни средини.

● CVDSIC глава за туширање

Се користи како компонента за дистрибуција на гас во опрема за гравирање во плазма, со одлична отпорност на корозија и термичка стабилност за да се обезбеди униформа дистрибуција на гас и ефект на гравирање.

● SIC обложен таван

Компонентите во комората за реакција на опрема, се користат за заштита на опремата од оштетување од висока температура и корозивни гасови и го прошируваат услужниот век на опремата.

● Силиконски епитаксиски подложни

Носачи на нафта што се користат во процесите на раст на силиконски епитаксијален раст за да се обезбеди униформа за греење и квалитет на таложење на нафора.

Силиконски карбид со депониран хемиски пареа (CVD SIC) има широк спектар на апликации при обработка на полупроводници, главно користени за производство на уреди и компоненти кои се отпорни на високи температури, корозија и висока тврдост. 

CVDsicОсновната улога се рефлектира во следниве аспекти

✔ Заштитни облоги во средини со висока температура

Функција: CVD SIC често се користи за површински облоги на клучните компоненти во полупроводничка опрема (како што се сукетори, облоги на комори за реакција, итн.). Овие компоненти треба да работат во средини со висока температура, а CVD SIC облоги можат да обезбедат одлична термичка стабилност за да го заштитат подлогата од оштетување на висока температура.

Предности: Високата точка на топење и одличната термичка спроводливост на CVD SIC обезбедуваат дека компонентите можат да работат стабилно долго време во услови на висока температура, продолжувајќи го услужниот век на опремата.

Applications Антикорозивни апликации

Функција: Во процесот на производство на полупроводници, CVD SIC облогата може ефикасно да се спротивстави на ерозијата на корозивни гасови и хемикалии и да го заштити интегритетот на опремата и уредите. Ова е особено важно за ракување со високо корозивни гасови како што се флуориди и хлориди.

Предности: Со депонирање на CVD SIC обложување на површината на компонентата, трошоците за оштетување и одржување на опремата предизвикани од корозија можат значително да се намалат, а ефикасноста на производството може да се подобри.

✔ Апликации со голема сила и отпорни на абење

Функција: CVD SIC материјалот е познат по својата висока цврстина и висока механичка јачина. Широко се користи во полупроводничките компоненти кои бараат отпорност на абење и висока прецизност, како што се механички заптивки, компоненти што носат оптоварување, итн. Овие компоненти се подложени на силен механички стрес и триење за време на работата. CVD SIC може ефикасно да се спротивстави на овие стресови и да обезбеди долг живот и стабилна изведба на уредот.

Предности: Компонентите изработени од CVD Sic не само што можат да издржат механички стрес во екстремни средини, туку и да ја одржат нивната димензионална стабилност и завршувањето на површината по долгорочната употреба.

Во исто време, CVD SIC игра клучна улога воЛЕР епитаксичен раст, Полупроводници на моќност и други полиња. Во процесот на производство на полупроводници, CVD SIC подлоги обично се користат какоЕпи суксетори. Нивната одлична термичка спроводливост и хемиска стабилност ги прават возрасните епитаксијални слоеви да имаат повисок квалитет и конзистентност. Покрај тоа, CVD SIC е исто така широко користена воНосачи на гравирање на ПСС, Носачи на нафора на РТП, Носачи за гравирање на ICP, итн., Обезбедување стабилна и сигурна поддршка за време на полупроводници за да се обезбеди перформанси на уредот.

Co. Vetek Semiconductor Technology Co., Ltd е водечки снабдувач на напредни материјали за обложување за индустријата за полупроводници. Нашата компанија се фокусира на развојни решенија за индустријата.

Нашите главни придонеси за производи вклучуваат CVD силиконски карбид (SIC) облоги, обложувања на танталум карбид (TAC), рефус SIC, SIC прашоци и SIC материјали со висока чистота, SIC обложени графитни подложни, загревање, TAC обложени прстени за пренасочување, полумоун, сечење делови итн.

ВЕТЕК Полупроводнички фокус се фокусира на развој на врвни технологии и решенија за развој на производи за индустријата за полупроводници.Искрено се надеваме дека ќе станеме ваш долгорочен партнер во Кина.